logo

Гіалуронова тканинна маска з екстрактом центелли Hyalu-Cica Hydrating Mask

SKIN1004

Опис
Склад
Спосіб застосування

Маска гарантує інтенсивне та тривале зволоження завдяки потужному комплексу з восьми видів гіалуронової кислоти. Вона глибоко насичує шкіру, миттєво усуває сухість і додає обличчю пружності. Екстракт центелли азіатської заспокоює подразнення, зменшує чутливість і зміцнює захисний бар’єр, сприяє відновленню епідермісу після стресу чи впливу зовнішніх чинників. Поєднання керамідів і сквалану посилює утримання вологи в клітинах, чим підтримує оптимальний гідроліпідний баланс. Тканина з гелевим покриттям щільно прилягає до обличчя, забезпечує рівномірне нанесення есенції та відчуття свіжості без липкості. Після застосування шкіра виглядає м’якою, гладенькою та має ефект природного сяйва.

 

Об'єм: 5x23 мл

Інгредієнти: Вода, бутиленгліколь, гліцерин, ніацинамід, 1,2-гексанедіол, гліцерилглюкозид, ксилітилглюкозид, ангідроксилітол, алантоїн, карбомер, аргінін, ксиліт, екстракт центели азіатської (1 000 ppm), полігліцерил-10 лаурат, етилгексилгліцерин, ксантанова камедь, аденозин, глюкоза, динатрій EDTA, гідрогенізований лецитин, екстракт квітів банана, вода з квітів троянди дамаської, екстракт плоду груші, екстракт сливи домашньої, сквалан, екстракт плоду дині, екстракт листя/стебел плюща, гіалуронат натрію (3.5 ppm), керамід NP, цетилетилгексаноат, холестерин, олія насіння макадамії, стероли ріпаку, олеїнова кислота, стеаринова кислота, токоферол, гіалуронова кислота (0.1 ppm), гідролізована гіалуронова кислота (0.1 ppm), гідролізований гіалуронат натрію (0.1 ppm), гіалуронат гідроксипропілтримонію (0.1 ppm), гіалуронат калію (0.1 ppm), гіалуронат натрію кросполімер (0.1 ppm), пентиленгліколь, ацетильований гіалуронат натрію (0.07 ppm).

 

Спосіб застосування: Нанесіть маску на очищену та тонізовану шкіру обличчя. Залиште на 10-20 хвилин та обережно зніміть. Масажними рухами або поплескуванням розподіліть залишки засобу на обличчя, шию та зону декольте.